全自動離子濺射儀的使用說明，就差你不知道了

　　全自動離子濺射儀是一種緊湊的臺式涂層系統(tǒng)，特別適用于掃描電子顯微鏡成像中非導電樣品的高質量涂層。樣品的干燥和清潔是離子濺射涂層的基本要求。如有必要，應在交換樣品和陰極的位置通過火花放電清潔樣品表面，然后在濺射涂層之前恢復樣品。鐵、鎳、銅和鉛常用作儀器的陰極材料。有時，電硬金、鉑、鈀、銦和其他金屬也可以用作陰極材料。
 



  

　　全自動離子濺射儀的使用說明：
 
　　1、一般來說，工作距離是可調節(jié)的。距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會增加。
 
　　2、通過控制真空壓力來實現離子電流的大小。真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子晶粒越粗，電子轟擊樣品(陽極)產生的熱量越高；真空度越高，I越小，濺射速度越慢，原子晶粒越小，電子轟擊樣品產生的熱量也小。
 
　　3、加速電壓固定可調。加速電壓越高，樣品的熱損傷越大。通常使用金屬靶的比例面積。
 
　　4、一些熱敏樣品需要在樣品區(qū)冷卻、水冷或珀爾帖冷卻；磁控器件也可以像電磁透鏡一樣用于偏轉樣品中的電子。當然，在這種轉型之后，它將增加非常高的成本。你可以在蠟表面濺上一層金屬而不會造成任何損壞。
 
　　5、真空中的雜質越多，涂層質量越差。通常，金相對穩(wěn)定，空氣可以用作等離子體氣體源，而許多其他靶需要惰性氣體。
 
　　6、氣體的原子序數越高，動量越大，濺射速度越快，但顆粒會更厚，連續(xù)膜會更厚。
 
　　7、保持真空室的清潔對高質量的涂層非常有益。
 
　　8、不要讓機械真空泵長時間保持極限真空，否則容易倒油。